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EUV

為什么ASML一年最高產(chǎn)量只有30部EUV?

就在7納米制程節(jié)點(diǎn)以下先進(jìn)制程的領(lǐng)域,必不可少的關(guān)鍵就是極紫外線微影(EUV)設(shè)備導(dǎo)入。除了三星用在首代7納米LPP制程,臺(tái)積電也自2019年開(kāi)始,將EUV導(dǎo)入加強(qiáng)版7納米+制程。

三星完成5納米EUV工藝研發(fā);蘋(píng)果與高通宣布和解;無(wú)錫SK海力士二工廠竣工

4月16日,三星官網(wǎng)發(fā)布新聞稿,宣布已經(jīng)完成5納米FinFET工藝技術(shù)開(kāi)發(fā),現(xiàn)已準(zhǔn)備好向客戶(hù)提供樣品,已開(kāi)始向客戶(hù)提供5納米多項(xiàng)目晶圓服務(wù)。與7納米工藝相比,三星的5納米FinFET工藝技

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